次氯酸水用於減少鈦合金表面生物膜之效應-體外試驗

研究焦點

論文名稱

中文:次氯酸水用於減少鈦合金表面生物膜之效應-體外試驗

英文:Effectiveness of Hypochlorous Acid to Reduce the Biofilms on Titanium Alloy Surfaces in Vitro

作者:口腔醫學部 陳俊呈 主治醫師

本篇論文發表於 International Journal of Molecular Sciences 期刊  2016,17, 1161-73.  全文下載

研究目的:

使用人工植牙來恢復缺牙患者的咬合功能,已經是一項日漸普遍的治療方式,然而其常見的併發症—植體周圍炎的盛行率也逐漸增加中。對於防治與治療植體周圍炎,如何清除附著於植體表面的牙菌斑及細菌附屬產物(LPS),至為關鍵。現行治療方式,無法高效率的去除LPS,常導致植體周圍炎症狀反覆發作。單純使用機械性的清潔方法被證明只能做到少部分的清潔,LPS會殘留在植體的螺紋及複雜的粗糙表面結構之中。因此,使用殺菌劑來輔助去除LPS在治療中是必要的。開發出替代CHX且對於清除LPS更有效,對生體傷害性低,價格也具競爭力的新一代沖洗藥劑HOCl,是本研究的目標。

研究結果:

a.在本研究中,180 ppm HOCl具有比0.2% CHX及1.3% NaOCl更好的LPS清除效力。

c. 於本研究中HOCl會於空置下24小時內消失具極低殘留率,對新生組織不具傷害性。

d. HOCl在極低濃度下對於P. gingivalis, E coli, E. faecalis, S. sanguinis仍具有明顯殺菌能力。

研究貢獻與臨床應用:

a.在HOCl的有效殺菌範圍內,具有比雙氧水及次氯酸鈉更低的組織刺激性及傷害性。在殺菌後的組織再生治療中,相較現有殺菌劑造成藥劑殘留及組織新生抑制而言,更具優勢。

b.HOCl具備移除LPS的能力,為現有藥劑無法達成,對於植體表面去毒性而言,更具優勢。因此HOCl具有取代CHX成為預防及治療植體周圍炎新一代沖洗藥劑的潛力。